リリースノート
3D-Coat 4.8 の更新内容
- テクスチャの解像度を変更可能。割り当てられたマテリアルは自動的に再サンプリングされます!
- スマートマテリアルのヒストリの使用。
- Renderman でシーンレンダリング。えぇ、本当なんです。
- プロキシスライダー。スライダーを動かすことで簡単にプロキシレベルの変更が可能。
- ベイクスキャン。ブラシで焼き付け深度をペイント。深度スキャンの強度を簡単なブラシストロークで定義できるようになりました。
- 4K モニタのサポート。UI 要素とフォントサイズが、ご使用のモニタの解像度に自動的に最適化されます。
- 回転モードのクイック切り替え - Y 軸回りと自由回転。ナビゲーションパネルを御覧ください。
両方のモードが必要?簡単に切り替えられるようになりました。
その他の変更:
- ペンの大きさや深度とは独立して、固定のバンプをスマートマテリアルに割付可能。
- マテリアル/ステンシルなどに多くのフォルダがある場合、ドロップダウンリストとして表示されるようになりました。
- PPP 手法によるディスプレイスメント表示に修正。
- ディスプレイスメントの読み込みの修正。スケーリング係数が正しく使用されます。
- キャッシュされたボリュームが消失しないよう、見つからないキャッシュについてのワーニング表示。
- SHIFT キーによるスナッピング - 90 度の代わりに 45 度でスナップします。
- UV プレビューウィンドウ(UV ルーム内)で CTRL キーを押すと、隣の UV タイルに循環する、選択された UV アイランドが表示されます。
- プリセットとしてカメラ位置を保存可能。
- トランスフォームケージの一点が選択されていてもギズモは表示されます。
- レンダールームでカスタムのレンダリングサイズを復元。
- 正方形アルファの完全サポート。以前のものも正しく動作します。
- 環境設定->Theme でフォントサイズが変更可能。
- "ファイル->Import multiple objects" で異なる方法で複数のオブジェクトの読み込み。
- アンダーカット/浅浮き彫りに平面下の効果を制限するためのチェックボックス。
- チャンネル選択による AO 読み込み。
- 調整ルームに全選択のオプション。
- 右クリックメニューに Copy / Paste / Copy reference / To materials library を追加。
- レンダールームの追加ライトのパラメータに Find Sun ボタンを追加。
- "Replace Depth" は他のレイヤでマスクできます。
- マテリアルで「レイヤ全体を塗りつぶす」とヒストリに送られます。
- マテリアルリファレンス(インスタンス)のサポート。
- 右クリックメニューに「Retopo via decimation」の追加。
- Divide ブレンドの修正。
- 塗りつぶしツールのコントロールの表示。
- 重要! ストロークに沿った深度ブレンド。
- 鋭角化ツールにマスク用の追加オプション。
- 光補償のための「Divide」レイヤブレンド。
- Bigger resolution for モデル->アルファ時のよりより大きな解像度の使用、ジャギー防止のための少量の漸減。
- ライトベイキングツールで、シーン内のそれぞれのオブジェクトに個別にライトをベイク可能。
フォーラムでのディスカッション
このリリースを楽しんでください!